Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching (ICP-RIE) System
Ennakkoilmoitus- Hankintayksikkö
- Oulun yliopisto
- Ilmoitustyyppi
- Ennakkoilmoitus
- CPV-koodit
- Laboratorio-, optiset ja tarkkuuslaitteet (38000000)
- Alue (NUTS)
- —
- Arvio arvosta
- ei julkaistu
- Julkaistu
- 26.06.2026
- Tarjousten määräaika
- —
- Ilmoitusnumero
- 2026-052449
Kuvaus
Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching (ICP-RIE) System University of Oulu is preparing a purchase of an inductively coupled plasma reactive ion etching (ICP-RIE) system. The system will be used in scientific research to fabricate microstructures for various applications, such as biomedicine, sensor technology, and optics. For more information, please contact the contracting unit to organize a dialogue by 10.8.2026 at the address: hankinnat@oulu.fi. Please note that contracting authority is on summer holiday during 11.7.-2.8.2026.,
Näytämme vain organisaatiotason julkiset tiedot; mahdollisia yhteyshenkilöiden nimiä ei tuoda tänne. Alkuperäinen ilmoitus yhteystietoineen on Hilmassa.
Vahti näille ilmoituksille avataan pian. Selaaminen on aina maksutonta.